Apa sepuluh target sputtering tahan suhu tinggi yang paling umum?
Target sputtering tahan suhu tinggi memainkan peran penting untuk sepuluh teratas target sputtering tahan suhu tinggi:
Target paduan molibdenum dan molibdenum
Fitur: Molybdenum adalah logam perak abu-abu dengan titik leleh 2623 derajat dan kepadatan 10,2g/cm³. Molybdenum dan paduannya memiliki keunggulan titik leleh yang tinggi, konduktivitas listrik dan termal yang baik, koefisien ekspansi termal rendah, ketahanan korosi yang sangat baik dan keramahan lingkungan.
Aplikasi: Molibdenum dan target paduan molibdenum telah banyak digunakan dalam peralatan elektronik, sel surya, pelapis kaca dan bidang lainnya.
Target logam ruthenium
Fitur: Target ruthenium memiliki ketahanan panas yang baik, ketahanan korosi dan kekuatan mekanik, dan cocok untuk digunakan dalam suhu tinggi, tekanan tinggi dan lingkungan korosif.
Proses persiapan: Bubuk rutenium dimuat ke dalam cetakan grafit, dipadatkan dan ditempatkan dalam tungku penekanan panas vakum untuk sintering penekanan panas searah. Proses sintering dilakukan di bawah atmosfer gas pelindung. Suhu sintering adalah 1600-1800 derajat dan tekanan sintering adalah 5-20 MPa.
Aplikasi: Target ruthenium dapat digunakan untuk deposisi film tipis perangkat elektronik, serta untuk persiapan film tipis optik dan pelapis optik.
Target sputtering aluminium kemurnian ultra-tinggi
Fitur: Target aluminium memiliki kemurnian tinggi dan konduktivitas yang sangat baik, dan cocok untuk persiapan lapisan konduktif dan lapisan penghalang perangkat semikonduktor.
Status Pasar: Diperkirakan bahwa pasar target sputtering aluminium ultra-tinggi global akan mencapai US $ 380 juta pada tahun 2029, dengan tingkat pertumbuhan tahunan gabungan (CAGR) sebesar 5,6%.
Target Tembaga Indium Gallium Selenide (CIGS)
Fitur: Target CIGS terutama digunakan dalam produksi sel surya film tipis.
Aplikasi: Dengan perkembangan cepat industri energi matahari, permintaan untuk target CIGS juga meningkat.
Target sputtering indium tin oxide (ito)
Fitur: Target ITO terutama digunakan untuk memproduksi film konduktif yang transparan dan banyak digunakan di layar sentuh dan tampilan panel datar.
Posisi Pasar: Dengan meningkatnya permintaan elektronik konsumen, posisi pasar target ITO menjadi semakin penting.
Target sputtering tungsten
Fitur: Tungsten memiliki titik leleh yang tinggi (3422 derajat) dan ketahanan aus yang sangat baik, cocok untuk pengendapan sputtering suhu tinggi dan bahan tahan aus.
Aplikasi: Target tungsten banyak digunakan dalam semikonduktor, perangkat elektronik dan pelapis tahan aus.
Target sputtering titanium
Fitur: Target titanium memiliki resistensi korosi yang baik dan biokompatibilitas, dan cocok untuk deposisi sputtering perangkat medis dan biosensor.
Aplikasi: Dengan pengembangan teknologi medis yang berkelanjutan, target titanium memiliki prospek aplikasi yang luas di bidang perangkat medis.
Target sputtering tantalum
Fitur: Target tantalum memiliki titik leleh yang tinggi (2996 derajat) dan stabilitas kimia yang sangat baik, dan cocok untuk deposisi sputtering dari bahan suhu tinggi dan bahan kimia yang stabil.
Aplikasi: Target tantalum banyak digunakan dalam perangkat elektronik, kedirgantaraan dan industri kimia.
Target sputtering niobium
Fitur: Target niobium memiliki titik leleh yang tinggi (2468 derajat) dan sifat superkonduktor yang sangat baik, dan cocok untuk pengendapan bahan superkonduktor dan perangkat elektronik.
Aplikasi: Target niobium banyak digunakan dalam bahan superkonduktor, perangkat elektronik dan bidang kedirgantaraan.
Target sputtering zirkonium
Fitur: Target zirkonium memiliki resistensi korosi yang baik dan biokompatibilitas, dan juga memiliki titik leleh yang tinggi (1852 derajat), membuatnya cocok untuk pengendapan sputtering bahan tahan korosi dan biokompatibel.
Aplikasi: Target zirkonium banyak digunakan di perangkat medis, peralatan kimia, perangkat elektronik dan bidang lainnya.
Singkatnya, target sputtering tahan suhu tinggi di atas memiliki karakteristik mereka sendiri dan banyak digunakan dalam semikonduktor, optik, fotovoltaik, perangkat elektronik, perangkat medis dan bidang lainnya.Dengan kemajuan sains dan teknologi dan perubahan permintaan pasar, penelitian dan pengembangan target ini bergerak menuju kinerja yang lebih tinggi, biaya yang lebih rendah dan arah yang lebih ramah lingkungan.
